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Visual FoxPro数据库及面向对象程序设计基础实验指导及习题解答
本书作为《Visual FoxPro数据库及面向对象程序设计基础(第2版)》(ISBN: 9787302261049)的辅助教材，包括实验指导和习题分析及解答两篇内容。实验指导篇包含VFP系统环境及配置、VFP表达式及应用、数据库的建立与维护、SQL语言应用与视图设计、结构化程序设计基础、表单设计及应用、控件设计及应用、菜单设计及应用、报表与标签设计及应用、网络程序设计基础、连编并发布应用程序11个实验单元，共有验证和设计性实验60多个题目，每个实验题目都给出了实验目的、实验要求、注意事项、实验步骤和思考
Oracle数据库应用与开发
本书深入介绍了关系数据库的规范和设计以及Oracle数据库管理和应用的相关方面，内容涵盖Oracle关系数据库理论介绍、Oracle体系结构、SQL*Plus使用、表创建、SQL基础、PL/SQL基础及高级应用、用户权限与安全、数据库的备份和恢复。书中所有代码都是基于Oracle 12c数据库调试运行。
信息系统与商业创新（第2版）
本书围绕信息系统和商业创新，比较详细地阐述了两者的内涵和关系，并以此视角对六种比较典型的信息系统的功能、发展演化和未来趋势进行了详尽的介绍。为了能够让非技术领域的读者快速学习相关知识，本书侧重从管理的视角展开论述。本书另一个特点是借助大量案例，让读者能够直观地理解信息技术、信息系统、商业创新的内涵和应用，从而进一步理解数字化时代的商业创新。 本书定位于普通高校的通识课程教材，是普通高校财经类及其他文科类专业本科生学习信息系统与商业创新、管理信息系统、信息管理、创新创业等相关课程的参考教材，也适用于普通高校非信息管理与信息系统等专业的理工科学生阅读，还可作为需要了解信息系统与商业创新相关知识的管理人员的参考读物。
机器学习
本教材的主要内容涵盖机器学习领域的主要模型和算法，包括监督学习的分类和回归模型与算法、非监督学习的聚类和降维算法、强化学习的主要算法、迁移学习的实例以及最新前沿的相关模型和算法的实践。本书以实验项目或案例为单元，每个单元有明确的实验目的、原理和实验步骤，包括基础验证性实验、综合设计性实验和系统开发项目实践。主要面向的读者对象是本科生和研究生。 本教材的主要内容涵盖机器学习领域的主要模型和算法，包括监督学习的分类和回归模型与算法、非监督学习的聚类和降维算法、强化学习的主要算法、迁移学习的实例以及最新前沿的相关模型和算法的实践。本书以实验项目或案例为单元，每个单元有明确的实验目的、原理和实验步骤，包括基础验证性实验、综合设计性实验和系统开发项目实践。主要面向的读者对象是本科生和研究生。
分组密码设计与评估
本书主要介绍对称密码(尤其是分组密码)的设计思想、实现原则和评估指标，以及分组密码工作模式特点。全书共9章。第1章介绍分组密码发展历史、现状，以及基本数学模型、设计原则和安全性评估方法概况；第2章介绍分组密码整体结构，包含目前最流行的5种结构及其安全性；第3、4章分别介绍非线性组件、线性组件的安全性指标及设计方法；第5～7章分别介绍基于Feistel结构、SP结构、广义Feistel结构的典型分组密码设计及其安全性评估；第8章介绍基于其他4种结构的典型分组密码设计及其安全性评估；第9章介绍3种功能的分组密码工作模式以及相关国际标准等。 本书既传承了经典又纳入了现代先进技术，既面向国际化又展现了本土化和自主化。本书适合作为密码科学与技术专业高年级本科生和网络空间安全、信息安全专业硕士生的教材，也可作为密码应用技术职业培训教材。
计算机科学基础(第2版·微课版)
本书参照教育部高等学校计算机基础课程的教学基本要求，主要介绍信息技术及其应用，从基础原理出发，以具体应用为导向逐步展开。 全书共9章，分为四篇: 信息技术基础篇(第1～3章)，介绍信息技术基础知识，包括软件、硬件、操作系统和数据的表示等；数据处理篇(第4、5章)，介绍算法基础知识和Python程序设计，Python部分包括对结构化数据和非结构化数据的处理示例；网络与新技术篇(第6～8章)，介绍计算机网络基础及新技术，包括物联网、云计算、大数据和人工智能技术及应用；信息安全篇(第9章)，介绍病毒与防火墙、密码学基础等内容。全书提供了大量的应用实例，且每章后均附有练习题和拓思题，题目解析可参考《计算机科学学习指导》。 本书适合作为高等院校本科生计算机通识教育课程的教材，也可供非计算机专业学习数据处理的人员参考。
现代集成电路工厂中的先进光刻工艺研发方法与流程
本书基于作者团队多年的光刻工艺（包括先进光刻工艺）研发经验，从集成电路工厂的基本结构、半导体芯片制造中常用的控制系统、图表等基本内容出发，依次介绍光刻基础知识，一个6晶体管静态随机存储器的电路结构与3个关键技术节点中SRAM 制造的基本工艺流程，光刻机的发展历史、光刻工艺8步流程、光刻胶以及掩模版类型，光刻工艺标准化与光刻工艺仿真举例，光刻技术的发展、应用以及先进光刻工艺的研发流程，光刻工艺试流片和流片的基本过程，光刻工艺试流片和流片中出现的常见问题和解决方法，光刻工艺中采用的关键技术举例以及其他两种与光刻相关的技术等内容。 本书不仅介绍光刻工艺相关基础知识，还介绍了一种符合工业标准的标准化研发方法，通过理论与仿真相结合，力求更加清楚地展示研发过程。本书可供光刻技术领域科研院所的研究人员、高等院校的学生、集成电路工程的技术人员等作为学习光刻技术的参考书。
信息系统分析与设计（微课视频版）
暂无简介
衍射极限附近的光刻工艺（第2版）
为了应对我国在集成电路领域，尤其是光刻技术方面严重落后于发达国家的局面，破解光刻制造设备、材料和光学邻近效应修正软件几乎完全依赖进口的困境，作为从事光刻工艺研发近20年的资深研发人员，作者肩负着协助光刻设备、材料和软件等产业链共同研发和发展的责任，将近20年的学习成果和研发经验汇编成书，建立联系我国集成电路芯片的研发和制造，设备、材料和软件的研发，以及大专院校、科研院所的科学技术研究、人才培养的一座桥梁。本书以光刻工艺为主线，有机地将光刻设备、光刻材料、光刻成像的理论计算、光刻工艺中各种建模思想和推导、芯片制造的技术发展要求以及对光刻工艺各项参数的要求紧密地联系在一起，给读者一个整体的图景。本书可供光刻技术领域科研院所的研究人员、大专院校的教师和学生、集成电路工厂的工程技术人员等参考。
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